SEMCORP Co., Ltd.

Sumber Gas Ekzos: Gas ekzos berasal daripada pelepasan tersusun mesin salutan.

Aliran Udara yang Direka: Sistem ini merangkumi satu Pengoksida Termal Regeneratif (RTO) 70,000 m³/j dan dua unit RTO injap putar 80,000 m³/j.

Kepekatan Gas Ekzos: Kepekatannya adalah antara kira-kira 4,000 mg/m³ hingga 9,000 mg/m³.

Komponen Gas Ekzos: Komponen utama termasuk aseton, antara lain.

Konfigurasi Proses: Proses ini menggunakan injap putar RTO yang digabungkan dengan pemulihan haba buangan, yang menampilkan dandang haba buangan stim.

Pemilihan RTO: Persediaan ini terdiri daripada satu RTO 70,000 m³/j dan dua unit RTO injap putar 80,000 m³/j.

Had Pelepasan
Pelepasan hidrokarbon bukan metana (NMHC) ≤50 mg/m³.