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Hunan Jiuri New Material Co., Ltd
indústria de química fina

Hunan Jiuri New Material Co., Ltd

2025-01-17

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Origem dos gases residuais: O gás residual é gerado pelos processos de produção e pelo tanque de armazenamento de águas residuais.

Fluxo de ar de exaustão: 12.000 m³/h

Concentração de gases residuais: Varia entre 1.000 e 4.500 mg/m³

Componentes dos gases residuais: Os principais componentes incluem metanol, etanol, tolueno, ácido clorídrico (HCl), 1,2-dicloroetano, acrilato de metila, clorobenzeno, ácido cicloexanoico, ácido isobutírico, isopropil cetona e morfolina.

Processo de tratamento: O processo de tratamento consiste em uma etapa de tamponamento, seguida por lavagem pré-alcalina, desumidificação, oxidação térmica regenerativa por válvula rotativa (RTO), têmpera e lavagem pós-alcalina.

Especificações do RTO: A unidade RTO tem uma capacidade de 20.000 m³/h.

Padrões de Emissão:
Dióxido de enxofre (SO₂) ≤ 200 mg/m³
Óxidos de nitrogênio (NOₓ) ≤ 200 mg/m³
Partículas em suspensão ≤ 30 mg/m³
Metanol ≤ 190 mg/m³
Tolueno ≤ 60 mg/m³
Cloreto de hidrogênio (HCl) ≤ 30 mg/m³
Compostos orgânicos voláteis (COVs) ≤ 60 mg/m³.