CCL Label (Hefei) Co., Ltd

Fonte de gás residual:
Os gases residuais têm duas origens principais: emissões organizadas de máquinas de impressão e mistura, bem como emissões não organizadas de oficinas.

Volume de ar projetado:
O sistema foi projetado com uma capacidade de 40.000 m³/h para a válvula rotativa (RTO), complementada por um rotor de zeólito de 50.000 m³/h.

Concentração de gases residuais:
A concentração de gases residuais organizados varia de aproximadamente 3.000 mg/m³ a 5.000 mg/m³, enquanto as emissões não organizadas ficam em torno de 600 mg/m³.

Componentes dos gases residuais:
Os principais componentes do gás residual incluem acetato de etila, éster n-propílico, isopropanol e outros.

Esquema do processo:
O processo de tratamento envolve a redução e concentração do ar, seguidas pelo processamento através de um separador rotativo de válvulas (RTO) e um rotor de zeólito. Além disso, o sistema integra a recuperação de calor residual, utilizando uma caldeira de recuperação de calor a vapor.

Modelo RTO: Válvula Rotativa RTO de 40.000 m³/h.

Limites de emissão:
O limite de emissão para hidrocarbonetos não metânicos (NMHC) é definido em ≤ 50 mg/m³.